Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Silicon Dioxide (SiO2) Sputtering Targets, Fused Quartz

Silicon Dioxide (SiO2) Sputtering Targets, Fused Quartz
Harga reguler Rp 9.750.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 9.750.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering silikon dioksida (SiO2) adalah sumber material padat dan rapat yang digunakan dalam deposisi uap fisik. Pada proses sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target sehingga atom terlepas dan mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. Produk ini terbuat dari kuarsa lebur, yaitu bentuk silika amorf yang dihasilkan dari peleburan kristal kuarsa alam, dan termasuk golongan material keramik oksida yang digunakan dalam optik dan elektronika.

  • Jumlah: 1 piece

Untuk spesifikasi teknis, sertifikat analisis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.

  • Lapisan dielektrik dan isolasi pada perangkat elektronika lapisan tipis
  • Lapisan optik, termasuk lapisan anti-refleksi dan pelindung
  • Lapisan penghalang dan pasivasi dalam riset lapisan tipis di laboratorium

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—