Target sputtering silicon dioxide (SiO2) berbahan fused quartz adalah target oksida padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD). Fused quartz merupakan bentuk silika amorf, sehingga target ini berfungsi sebagai sumber silika untuk mendeposisikan lapisan tipis SiO2 pada substrat dalam sistem sputtering. Material ini termasuk golongan keramik oksida dan digunakan dalam riset dan pengembangan lapisan tipis.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis optik, seperti lapisan anti-refleksi dan pelindung
- Pembuatan lapisan dielektrik dan isolasi dalam riset mikroelektronika
- Pertumbuhan lapisan penghalang dan pasivasi pada substrat laboratorium
- Pengembangan struktur waveguide dan perangkat fotonik berbasis silika
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—