Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Silicon Dioxide (SiO2) Sputtering Targets, Fused Quartz

Silicon Dioxide (SiO2) Sputtering Targets, Fused Quartz
Harga reguler Rp 11.376.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 11.376.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering silicon dioxide (SiO2) dari kuarsa lebur adalah material sumber padat berbahan keramik yang digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD). Selama sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target dan melepaskan atom SiO2 yang kemudian mengendap pada substrat sehingga membentuk lapisan tipis. Kuarsa lebur adalah bentuk silikon dioksida yang amorf menyerupai kaca, sehingga sering dipilih untuk deposisi lapisan dielektrik dan optik. Material ini termasuk dalam golongan keramik oksida.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Deposisi lapisan tipis optik, seperti lapisan anti-pantul dan pelindung pada kaca serta komponen optik
  • Lapisan dielektrik dan isolasi dalam riset mikroelektronika dan perangkat semikonduktor
  • Lapisan pasivasi dan penghalang dalam studi ilmu material
  • Pembuatan lapisan tipis berbasis silika untuk pengembangan sensor dan fotonika

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—