Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Silicon Dioxide (SiO2) Sputtering Targets, Fused Quartz

Silicon Dioxide (SiO2) Sputtering Targets, Fused Quartz
Harga reguler Rp 11.530.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 11.530.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering silicon dioxide (SiO2) yang terbuat dari kuarsa lebur adalah material sumber padat untuk physical vapor deposition (sputtering), sebuah proses pelapisan lapisan tipis. Kuarsa lebur merupakan bentuk silika amorf yang berwujud kaca, dihargai karena stabilitas kimianya dan sifat transparan optiknya. Target dipasang pada sistem sputtering, di mana pemboman ion melepaskan material yang kemudian mengendap sebagai lapisan tipis silika pada substrat.

  • Jumlah: 1 buah

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran.

  • Deposisi lapisan tipis optik, seperti lapisan anti-refleksi dan pelindung
  • Pembuatan lapisan dielektrik dan isolasi dalam riset mikroelektronika
  • Pengembangan lapisan penghalang atau pasivasi berbasis silika
  • Riset akademik dan industri mengenai pemrosesan lapisan tipis dan karakterisasi material

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—