Target sputtering silicon nitride (Si3N4) merupakan material sumber berbentuk keramik yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis silicon nitride. Silicon nitride termasuk golongan keramik nitrida, yang dikenal karena kekerasannya, stabilitas kimianya, dan sifat isolasi listriknya. Nanografi menyediakan target ini sebagai sumber sputtering padat untuk sistem deposisi skala laboratorium dan pilot.
- Jumlah: 1 buah
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan dielektrik dan pasivasi dalam riset perangkat semikonduktor dan mikroelektronika
- Lapisan pelindung dan tahan aus pada alat dan komponen
- Lapisan tipis optik untuk studi pelapisan dan pemandu gelombang
- Riset fabrikasi perangkat MEMS dan rekayasa permukaan
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—