Target sputtering silikon nitrida (silicon nitride sputtering target) Si3N4 dari Nanografi ini berbentuk cakram berukuran 1'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,5%. Warnanya abu-abu gelap hingga hitam. Target ini digunakan sebagai bahan sumber pada sistem deposisi sputter untuk menghasilkan lapisan tipis (thin film).
Dalam proses sputtering, material dikikis dari target lalu diendapkan ke substrat, misalnya wafer silikon. Metode ini dapat diterapkan pada substrat dengan beragam bentuk dan ukuran serta memberikan hasil yang dapat diulang. Prosesnya cocok untuk riset dan pengembangan skala kecil dan dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat menengah hingga besar.
Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat deposisi sputter menjadi proses yang kompleks, namun memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Teknik analisis material seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Kajian pelapukan antariksa (space weathering), yaitu perubahan permukaan benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan akibat sputtering.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,5% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01SI92
- Material: Silikon Nitrida (Si3N4)
- Ukuran: 1''
- Ketebalan: 0,125''
- Warna: Abu-abu gelap hingga hitam
- Kode produk: NG0ST01SI92
—
—