Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Silicon Nitride (Si3N4) Sputtering Targets

Silicon Nitride (Si3N4) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 10.834.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 10.834.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Silikon nitrida (Si3N4) adalah senyawa keramik maju yang tersusun dari silikon dan nitrogen, termasuk dalam golongan keramik nitrida dan material dielektrik. Target sputtering berbahan silikon nitrida berfungsi sebagai material sumber dalam physical vapor deposition (PVD), di mana target dibombardir dengan ion berenergi tinggi sehingga atomnya terlepas dan terdeposisi sebagai lapisan tipis pada substrat. Lapisan yang dihasilkan dinilai karena sifat isolasi listriknya, stabilitas kimianya, dan ketahanan mekaniknya.

  • Kuantitas: 1 buah

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran.

  • Lapisan dielektrik dan pasivasi dalam riset mikroelektronika dan perangkat semikonduktor
  • Lapisan pelindung keras dan tahan aus pada perkakas maupun komponen
  • Lapisan tipis optik untuk riset pelapisan dan fotonika
  • Sistem mikroelektromekanis (MEMS) dan pengembangan proses mikrofabrikasi

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—