Silicon nitride (Si3N4) merupakan senyawa keramik maju yang dihargai karena kekerasan, stabilitas kimia, dan sifat isolasi listriknya. Dalam format ini, material tersedia sebagai sputtering target, yaitu material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis pada substrat. Material ini termasuk golongan keramik nitrida dan banyak digunakan dalam riset serta proses lapisan tipis industri.
- Kuantitas: 1 buah
Untuk spesifikasi teknis, sertifikat analisis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan dielektrik dan pasivasi dalam riset perangkat semikonduktor
- Lapisan pelindung dan tahan aus pada perkakas maupun komponen
- Lapisan tipis optik untuk pengembangan pelapisan
- Lapisan penghalang dan enkapsulasi dalam pembuatan prototipe MEMS dan mikroelektronika
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—