Target sputtering silicon nitride (Si3N4) adalah material sumber keramik padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis silicon nitride. Silicon nitride termasuk golongan keramik nitrida berikatan kovalen, yang dikenal karena sifat isolasi listrik, stabilitas kimia, dan ketahanan mekanisnya. Selama proses sputtering, target dibombardir dengan ion berenergi tinggi di dalam ruang vakum, sehingga material terlepas dan mengendap pada substrat sebagai lapisan yang seragam.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Riset lapisan dielektrik dan pasivasi pada mikroelektronika dan perangkat semikonduktor
- Lapisan pelindung dan pelapis keras pada alat dan komponen mekanis
- Studi lapisan tipis optik untuk pelapisan dan struktur fotonik
- Riset fabrikasi perangkat MEMS dan sensor
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—