Target sputtering silikon nitrida (silicon nitride sputtering target) Si3N4 dari Nanografi ini berukuran 1'' dengan ketebalan 0,250'', kemurnian 99,9%, dan berwarna putih hingga abu-abu. Target ini digunakan sebagai sumber material untuk deposisi lapisan tipis (thin film) dengan metode sputtering, yaitu material dikikis dari target lalu diendapkan pada substrat seperti wafer silikon.
Deposisi sputter dapat diterapkan pada beragam material dan substrat dengan bentuk serta ukuran yang berbeda. Prosesnya dapat diulang secara konsisten dan dapat ditingkatkan skalanya dari proyek riset dan pengembangan kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat, sehingga pengguna berpengalaman dapat mengendalikan pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan secara luas.
Selain deposisi, sputtering juga dimanfaatkan untuk etsa anisotropik dan teknik analisis seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS).
- Deposisi lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) bila dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis komposisi dengan SIMS, di mana atom yang tersputter diidentifikasi dengan spektrometri massa untuk mendeteksi pengotor berkadar sangat rendah.
- Proyek riset dan pengembangan yang dapat ditingkatkan ke area substrat menengah hingga besar.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01SI95
- Material: Silikon Nitrida (Si3N4)
- Ukuran: 1''
- Ketebalan: 0,250''
- Warna: Putih hingga Abu-abu
- Kode produk: NG0ST01SI95
—
—