Target sputtering silicon nitride (Si3N4) adalah material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk film tipis melalui proses sputtering. Silicon nitride merupakan senyawa keramik non-oksida yang termasuk dalam golongan keramik maju dan material dielektrik, dikenal karena stabilitas kimia dan ketahanan mekaniknya dalam proses film tipis.
- Jumlah: 1 buah
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan dielektrik dan pasivasi dalam riset mikroelektronika
- Lapisan pelindung dan tahan aus berbasis film tipis
- Pengembangan film tipis optik
- Studi fabrikasi perangkat MEMS dan sensor
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—