Silikon nitrida (Si3N4) adalah senyawa keramik maju dari silikon dan nitrogen, yang dihargai karena kekerasannya, stabilitas kimianya, dan sifat isolasi listriknya. Dalam format ini, material tersebut disediakan sebagai target sputtering, yaitu material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis pada substrat.
- Kuantitas: 1 buah
Untuk spesifikasi teknis, sertifikat analisis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan dielektrik dan pasivasi dalam riset mikroelektronika
- Lapisan pelindung dan penghalang untuk komponen optik dan mekanik
- Studi deposisi lapisan tipis pada substrat semikonduktor dan kaca
- Pengembangan lapisan keras tahan aus
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—