Target sputtering silikon nitrida (silicon nitride sputtering target, Si3N4) dari Nanografi ini berbentuk cakram berukuran 2'' dengan ketebalan 0,250'' dan kemurnian 99,5%. Warnanya abu-abu gelap hingga hitam. Produk ini digunakan sebagai bahan sumber untuk membuat lapisan tipis silikon nitrida melalui proses sputtering.
Pada deposisi sputtering, material dikikis dari target lalu diendapkan ke substrat, misalnya wafer silikon. Metode ini dapat melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran, memberikan hasil yang dapat diulang, serta dapat ditingkatkan skalanya dari proyek riset dan pengembangan kecil hingga batch produksi dengan area substrat sedang sampai besar.
Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat berlangsung di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat proses ini kompleks, namun justru memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis silikon nitrida pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS), di mana material di-sputter dengan laju konstan untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,5% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01SI98
- Material: Silikon Nitrida (Si3N4)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,250''
- Warna: Abu-abu gelap hingga hitam
- Kode produk: NG0ST01SI98
—
—