Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Silicon Nitride (Si3N4) Sputtering Targets

Silicon Nitride (Si3N4) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 20.007.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 20.007.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Silicon nitride (Si3N4) adalah keramik teknis berikatan kovalen yang termasuk dalam golongan keramik nitrida. Material ini dikenal karena kekuatan mekanik, kekerasan, stabilitas termal, dan sifat isolasi listriknya. Sputtering target adalah lempeng sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk melapiskan film tipis material ini ke substrat.

  • Jumlah: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Deposisi lapisan dielektrik dan pasivasi dalam riset mikroelektronika dan semikonduktor
  • Lapisan pelindung keras untuk perkakas potong dan komponen tahan aus
  • Film tipis optik dan anti-refleksi
  • Riset fabrikasi untuk MEMS dan perangkat berskala mikro lainnya

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—