Target sputtering silicon nitride (Si3N4) adalah pelat keramik padat dan rapat yang digunakan sebagai material sumber dalam proses sputtering physical vapor deposition (PVD). Silicon nitride termasuk golongan keramik teknik maju, yang dihargai karena kekerasannya, stabilitas kimianya, dan sifat isolasi listriknya. Target dipasang di dalam ruang sputtering dan terkikis oleh ion plasma, sehingga melepaskan material yang terdeposisi pada substrat sebagai lapisan tipis. Hal ini menjadikannya pilihan umum ketika peneliti membutuhkan lapisan isolasi atau pelindung.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis dielektrik dan pasivasi dalam riset semikonduktor
- Lapisan pelindung dan tahan aus pada alat dan komponen
- Lapisan tipis optik untuk prototipe riset
- Lapisan penghalang dalam pengembangan mikroelektronika dan perangkat MEMS
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—