Target sputtering silikon (Si) adalah material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk mendeposisikan lapisan tipis silikon pada substrat. Varian tipe N ini adalah silikon yang didoping, memberikan konduksi dominan elektron untuk riset film elektronik dan semikonduktor. Silikon tergolong kelompok material semikonduktor, dan produk ini termasuk golongan target sputtering.
- 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi film silikon terdoping untuk riset perangkat semikonduktor
- Lapisan tipis dalam pengembangan fotovoltaik dan sel surya
- Studi fabrikasi mikroelektronika dan MEMS
- Riset lapisan optik dan pelindung
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—