Target sputtering silicon tipe N adalah material sumber padat yang terbuat dari silikon yang didoping dengan pengotor donor untuk menghasilkan konduksi listrik tipe n. Dalam physical vapor deposition, target dibombardir dengan ion berenergi tinggi sehingga atom silikon terlepas dan terdeposisi di atas substrat sebagai lapisan tipis. Silikon termasuk material semikonduktor golongan IV dan banyak digunakan dalam riset elektronika serta fotonika.
- 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis untuk pembuatan prototipe perangkat semikonduktor
- Riset lapisan tipis berbasis silikon untuk MEMS dan mikrosensor
- Studi pelapisan optik dan dielektrik
- Riset lapisan fotovoltaik untuk pengembangan sel surya
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—