Target sputtering silikon (Si) merupakan disk atau pelat padat dan berdensitas tinggi yang digunakan sebagai material sumber dalam sistem sputtering physical vapor deposition (PVD). Varian tipe-N ini adalah silikon yang didoping dengan unsur donor, sehingga elektron menjadi pembawa muatan mayoritas. Material ini termasuk golongan target material semikonduktor yang digunakan untuk mendeposisikan lapisan tipis berbasis silikon pada substrat.
- 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran harga.
- Deposisi lapisan tipis berbasis silikon untuk riset perangkat semikonduktor
- Fabrikasi lapisan microelectromechanical systems (MEMS)
- Pengembangan struktur lapisan tipis fotovoltaik dan sel surya
- Persiapan lapisan optik dan lapisan pelindung
- Pembuatan prototipe sensor dan komponen elektronik di laboratorium akademik maupun industri
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—