Target sputtering silikon (Si) adalah material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk mendeposisikan lapisan tipis silikon pada substrat. Varian tipe N ini didoping dengan pengotor donor elektron, sehingga lapisan yang terbentuk dapat menunjukkan perilaku listrik tipe n. Target sputtering termasuk dalam kelompok material maju yang digunakan dalam riset lapis tipis dan pelapisan.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis silikon terdoping untuk riset perangkat semikonduktor
- Fabrikasi struktur uji MEMS dan mikroelektronika
- Pengembangan lapisan sel surya lapis tipis
- Sputtering reaktif film dielektrik berbasis silikon seperti SiO2 dan Si3N4
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—