Target sputtering silikon (Si) adalah pelat padat dan rapat dari silikon yang digunakan sebagai material sumber dalam proses physical vapor deposition (PVD), seperti magnetron sputtering. Grade tipe N ini adalah silikon yang didoping dengan unsur donor, sehingga menghasilkan pembawa muatan negatif. Material ini termasuk golongan material semikonduktor yang digunakan dalam riset lapis tipis dan mikrofabrikasi.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis silikon untuk riset dan pembuatan prototipe perangkat semikonduktor
- Pembuatan struktur uji untuk studi sel surya dan fotovoltaik
- Pengembangan lapisan optik dan dielektrik berbasis silikon
- Pengembangan proses MEMS dan mikroelektronika
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—