Target sputtering silicon (Si) adalah pelat sumber padat dari silikon, digunakan dalam deposisi uap fisik (sputtering) untuk menghasilkan film tipis. Golongan tipe-N ini adalah silikon yang didoping dengan unsur donor, sehingga elektron menjadi pembawa muatan mayoritas, yang relevan untuk riset film tipis elektronik dan semikonduktor. Material Nanografi disediakan untuk kebutuhan pelapisan skala laboratorium dan pilot.
- Kuantitas: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, sertifikat analisis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi film tipis berbasis silikon untuk riset perangkat semikonduktor
- Pengembangan lapisan fotovoltaik dan sel surya
- Pembuatan prototipe komponen mikroelektronika dan MEMS
- Studi lapisan optik dan pelindung
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—