Target sputtering silikon (Si) adalah cakram atau pelat padat dengan kemurnian tinggi yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis silikon pada substrat. Varian tipe-N ini adalah silikon yang didoping dengan unsur donor elektron, sehingga lapisan yang terbentuk memiliki perilaku listrik tipe-n. Target silikon termasuk dalam golongan material semikonduktor dan lapisan tipis, dan banyak digunakan dalam riset material maju.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis berbasis silikon untuk riset perangkat semikonduktor
- Pembuatan lapisan untuk prototipe sel surya dan fotovoltaik
- Pengembangan lapisan komponen MEMS dan mikroelektronika
- Penyiapan lapisan berbahan silikon untuk studi optik dan pelindung
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—