Target sputtering silikon adalah cakram atau lempeng padat silikon unsur yang digunakan sebagai material sumber dalam proses sputtering physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk film tipis. Varian tipe-P ini didoping dengan indium, yang memasukkan pembawa muatan positif ke dalam kisi silikon. Material ini termasuk dalam golongan material target semikonduktor.
- Kuantitas: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi film tipis berbasis silikon untuk riset perangkat semikonduktor
- Fabrikasi prototipe film tipis fotovoltaik dan sel surya
- Pengembangan struktur uji MEMS dan mikroelektronika
- Studi permukaan dan antarmuka di laboratorium ilmu material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—