Target sputtering silikon (Si) adalah material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis silikon. Varian tipe P ini didoping dengan indium, dopan akseptor yang memasukkan pembawa muatan positif (hole) ke dalam kisi silikon, sehingga berguna untuk studi sifat elektronik yang terkontrol. Target sputtering Nanografi disediakan untuk proses riset dan proses lapisan tipis industri.
- Jumlah: 1 buah
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis silikon terdoping untuk riset perangkat semikonduktor
- Pengembangan lapisan fotovoltaik dan sel surya
- Pembuatan prototipe mikroelektronika dan MEMS
- Studi lapisan optik dan pelindung
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—