Target sputtering silikon (Si) adalah cakram atau pelat sumber padat dan rapat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk mengendapkan lapisan tipis silikon pada substrat. Silikon merupakan semikonduktor golongan IV, dan kelas P-type ini di-doping sehingga pembawa muatan positif (hole) menjadi pembawa mayoritas. Target ini disebutkan dengan indium, sesuai dengan judul produk.
- Kuantitas: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Pengendapan lapisan tipis silikon untuk riset perangkat semikonduktor
- Pembuatan prototipe lapisan mikroelektronika dan MEMS
- Studi struktur lapisan tipis fotovoltaik dan sel surya
- Pengembangan lapisan fungsional dan lapisan silikon ter-doping untuk riset material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—