Target sputtering silikon adalah lempeng padat silikon yang digunakan sebagai material sumber dalam proses physical vapor deposition (PVD). Selama sputtering, atom dilepaskan dari permukaan target dan diendapkan pada substrat untuk membentuk lapisan tipis. Varian tipe-P ini adalah silikon yang didoping dengan pengotor akseptor, sehingga pembawa muatan mayoritasnya berupa hole. Material ini termasuk golongan material sputtering semikonduktor yang digunakan dalam riset lapisan tipis dan fabrikasi perangkat.
- 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis berbasis silikon untuk riset perangkat semikonduktor
- Fabrikasi lapisan untuk studi sel surya lapisan tipis dan fotovoltaik
- Pembuatan prototipe struktur MEMS dan mikrosensor
- Studi permukaan dan antarmuka pada lapisan tipis silikon terdoping
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—