Target sputtering silikon (Si) adalah keping sumber padat berdensitas tinggi yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk menghasilkan lapisan tipis silikon. Versi tipe P ini didoping dengan unsur akseptor, sehingga hole menjadi pembawa muatan mayoritas. Material ini termasuk golongan material semikonduktor dan banyak digunakan dalam riset lapisan tipis serta pengembangan perangkat.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis silikon untuk riset mikroelektronika dan perangkat semikonduktor
- Pembuatan lapisan fotovoltaik dan sel surya dalam studi laboratorium
- Pengembangan struktur MEMS dan sensor yang memerlukan lapisan silikon
- Studi lapisan optik dan dielektrik berbasis film yang mengandung silikon
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—