Target sputtering silikon (Si) adalah pelat padat berdensitas tinggi yang digunakan sebagai material sumber dalam proses sputtering physical vapor deposition (PVD) untuk mendeposisikan film silikon tipis pada substrat. Varian tipe-P ini didoping untuk menghasilkan pembawa muatan positif (hole) sebagai pembawa mayoritas, sehingga cocok untuk pekerjaan film tipis yang membutuhkan konduktivitas tipe-p. Silikon termasuk dalam golongan material semikonduktor dan banyak digunakan dalam riset skala laboratorium dan pilot.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi film silikon tipis untuk riset perangkat semikonduktor
- Pembuatan lapisan untuk prototipe fotovoltaik dan sel surya
- Pengembangan struktur film tipis MEMS dan mikroelektronika
- Sputtering reaktif untuk membentuk lapisan silikon oksida atau silikon nitrida
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—