Target sputtering silikon (Si) tipe P adalah cakram atau pelat padat dari silikon yang didoping dengan pengotor akseptor, seperti boron, sehingga menghasilkan kelebihan pembawa muatan positif (hole). Sebagai bagian dari golongan material semikonduktor dan target sputtering, material ini berfungsi sebagai sumber material dalam physical vapor deposition (PVD), di mana atom dilepaskan dari permukaan target dan diendapkan pada substrat untuk membentuk lapisan tipis.
- Jumlah: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Riset deposisi lapisan tipis untuk fabrikasi perangkat semikonduktor
- Pengembangan lapisan berbasis silikon untuk studi sel fotovoltaik dan surya
- Pembuatan prototipe mikroelektronika dan MEMS
- Eksperimen pelapisan untuk riset lapisan tipis optik dan elektronik
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—