Target sputtering silikon (Si) tanpa doping adalah blok padat yang terkonsolidasi dari unsur silikon tanpa penambahan dopan yang disengaja. Sebagai metaloid berkualitas semikonduktor, silikon berfungsi sebagai material sumber dalam proses physical vapor deposition (PVD), di mana atom-atom dilepaskan dari target dan diendapkan sebagai film tipis pada substrat.
- Jumlah: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi film tipis silikon untuk riset perangkat semikonduktor
- Fabrikasi MEMS dan struktur uji mikroelektronika
- Pengembangan lapisan sel fotovoltaik dan surya
- Lapisan optik berbasis silikon serta sputtering reaktif lapisan silikon oksida atau nitrida
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—