Target sputtering silikon (Si) tanpa doping adalah lempengan target padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk mendeposisikan film tipis berbasis silikon pada substrat. Silikon merupakan semikonduktor unsur, dan bentuk tanpa doping ini ditujukan untuk riset yang memerlukan film tanpa penambahan dopan secara sengaja. Produk Nanomaterial dari rangkaian Nanografi ini didistribusikan oleh AMI Scientific.
- Jumlah: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran.
- Deposisi film tipis silikon untuk riset perangkat semikonduktor
- Pembuatan lapisan berbasis silikon untuk studi sel surya fotovoltaik dan film tipis
- Sputtering reaktif untuk film dielektrik silikon nitrida atau silikon oksida
- Pengembangan proses pelapisan dalam riset mikroelektronika dan MEMS
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—