Target sputtering silikon (Si) adalah pelat padat silikon unsur tanpa doping yang digunakan sebagai material sumber dalam sistem sputtering physical vapor deposition (PVD). Silikon tanpa doping merupakan material semikonduktor, dan target sputtering jenis ini digunakan untuk mendeposisikan lapisan tipis berbasis silikon yang seragam pada substrat di dalam ruang vakum. Karena komposisi target bersifat unsur tunggal, target ini menjadi titik awal yang sederhana untuk pengembangan proses yang membutuhkan lapisan bebas dopan. Materi Nanografi dalam kategori ini disediakan untuk kebutuhan riset lapisan tipis skala laboratorium dan pilot.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis silikon untuk riset perangkat semikonduktor
- Fabrikasi lapisan silikon untuk studi fotovoltaik lapisan tipis
- Persiapan lapisan optik dan pelindung
- Pembuatan prototipe mikroelektronika dan MEMS
- Studi permukaan dan antarmuka dalam ilmu material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—