Target sputtering silikon (Si) adalah pelat padat silikon unsur dengan kemurnian tinggi, merupakan semikonduktor golongan IV yang banyak digunakan dalam elektronik dan riset material. Dalam physical vapor deposition (PVD), target dibombardir dengan ion berenergi tinggi sehingga atom silikon terlepas dan terdeposisi pada substrat sebagai lapisan tipis. Varian tanpa doping ini tidak mengandung unsur dopan yang sengaja ditambahkan, sehingga cocok sebagai titik awal untuk studi yang memerlukan lapisan silikon murni.
- 1 buah
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis silikon untuk riset perangkat semikonduktor
- Pembuatan lapisan berbasis silikon untuk studi fotovoltaik dan sel surya
- Penyiapan lapisan optik dan pelindung dalam riset lapisan tipis
- Pengembangan prototipe komponen MEMS dan mikroelektronika
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—