Target sputtering silikon (Si) adalah lempeng padat silikon unsur yang digunakan sebagai material sumber dalam physical vapor deposition (PVD). Selama proses sputtering, atom dilepaskan dari permukaan target dan diendapkan pada substrat untuk membentuk lapisan tipis. Produk ini tanpa doping, artinya tidak ada unsur dopan yang ditambahkan secara sengaja. Silikon adalah unsur golongan IV dan material dasar dalam manufaktur semikonduktor, sehingga target sputtering jenis ini umumnya dipilih ketika peneliti membutuhkan sumber silikon untuk pertumbuhan film yang terkontrol pada wafer, kaca, atau substrat lainnya.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis silikon untuk riset perangkat semikonduktor
- Sputtering reaktif untuk lapisan dielektrik silikon nitrida atau silikon dioksida
- Pengembangan lapisan optik dan lapisan anti-refleksi
- Fabrikasi lapisan tipis untuk riset MEMS dan mikrosensor
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—