Target sputtering stronsium titanat (strontium titanate sputtering target, SrTiO3) dari Nanografi berfungsi sebagai sumber material untuk deposisi lapisan tipis (thin film) melalui proses sputtering. Target ini memiliki kemurnian 99,9%, ukuran 8'' dan ketebalan 0,250'', serta disediakan per satu keping.
Pada deposisi sputter, material dikikis dari target lalu mengendap pada substrat, misalnya wafer silikon. Metode ini dapat melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran, memberikan hasil yang dapat diulang, dan dapat ditingkatkan skalanya dari proyek riset kecil hingga batch produksi dengan area substrat sedang sampai besar.
Tergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat prosesnya kompleks, namun memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis stronsium titanat pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi masalah.
- Analisis komposisi berbasis sputtering, seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS), yang mampu mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Kajian pelapukan antariksa (space weathering) yang mengubah sifat fisik dan kimia benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 keping |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01SR29
- Material: Stronsium Titanat (SrTiO3)
- Ukuran: 8''
- Ketebalan: 0,250''
—
—