Target sputtering stronsium titanat (strontium titanate sputtering target, SrTiO3) dari Nanografi ini berukuran 3'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,9%. Produk dipasok per satu buah sebagai bahan sumber untuk deposisi lapisan tipis dengan teknik sputtering.
Sputtering merupakan teknologi yang telah teruji untuk melapisi substrat dengan berbagai bentuk dan ukuran menggunakan lapisan tipis dari beragam material. Proses dengan target sputtering memberikan hasil yang dapat diulang dan dapat ditingkatkan skalanya, mulai dari proyek riset dan pengembangan kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Tergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat deposisi sputter cukup kompleks, namun justru memberi pengguna berpengalaman kendali yang besar atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis, yaitu material dari target dikikis lalu diendapkan ke substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan utama.
- Analisis material melalui pengikisan, misalnya pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkonsentrasi sangat rendah.
- Kajian pelapukan antariksa (space weathering), di mana sputtering mengubah sifat fisik dan kimia benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01SR19
- Material: Stronsium Titanat (SrTiO3)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01SR19
—
—