Target sputtering stronsium titanat (strontium titanate sputtering target, SrTiO3) ini merupakan bahan sumber berkemurnian 99,9% untuk pembuatan lapisan tipis melalui proses sputtering. Setiap keping berukuran 6'' dengan ketebalan 0,125'' dan dipasok dalam kemasan satu buah.
Pada deposisi sputter, material dikikis dari target lalu diendapkan ke substrat, misalnya wafer silikon. Teknik ini dapat diterapkan pada substrat dengan berbagai bentuk dan ukuran, memberikan hasil yang dapat diulang, serta dapat ditingkatkan skalanya dari proyek riset kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya variabel membuat sputtering tergolong kompleks, namun justru memberi pengguna berpengalaman kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis SrTiO3 pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material dengan sputtering, seperti pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkadar sangat rendah.
- Penelitian terkait pelapukan antariksa (space weathering), yaitu proses sputtering yang mengubah permukaan benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01SR25
- Material: Stronsium Titanat (SrTiO3)
- Ukuran: 6''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01SR25
—
—