Target sputtering stronsium titanat (strontium titanate sputtering target, SrTiO3) dari Nanografi merupakan bahan sumber berkemurnian 99,9% untuk deposisi lapisan tipis (thin film). Target ini berukuran 7'' dengan ketebalan 0,250'' dan dipasok per satu buah.
Pada proses sputtering, material dari target dikikis lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat, misalnya wafer silikon, dan dapat diterapkan pada substrat dengan beragam bentuk serta ukuran. Hasilnya dapat diulang dengan konsisten dan skalanya dapat ditingkatkan dari proyek riset dan pengembangan kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat berlangsung di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter ini membuat sputtering cukup kompleks, namun memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon dengan metode sputtering.
- Sputter etching ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS), di mana material di-sputter dengan laju konstan untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkadar sangat rendah.
- Penelitian terkait pelapukan antariksa (space weathering), yaitu perubahan permukaan benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan akibat sputtering.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01SR28
- Material: Stronsium Titanat (SrTiO3)
- Ukuran: 7''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01SR28
—
—