Tantalum oksida (Ta2O5) adalah keramik oksida anorganik dari tantalum yang banyak digunakan sebagai material sumber untuk physical vapor deposition. Target sputtering ini dirancang untuk mendeposisikan lapisan tipis Ta2O5 pada substrat dalam lingkup riset dan pengembangan. Judul produk juga menyebut indium, sehingga mohon konfirmasikan konfigurasi bonding atau backing kepada kami sebelum memesan.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan tipis optik, seperti lapisan dielektrik dengan indeks bias tinggi
- Lapisan dielektrik dalam riset mikroelektronika dan kapasitor
- Lapisan pelindung dan penghalang yang dipelajari dalam ilmu material
- Pengembangan proses untuk sistem sputter deposition
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—