Target sputtering Tantalum Oksida (Ta2O5) merupakan sumber padat berbentuk keramik oksida dengan densitas tinggi, digunakan dalam physical vapor deposition untuk membentuk lapisan tipis. Tantalum oksida termasuk golongan keramik oksida anorganik dan material dielektrik, yang dihargai karena indeks biasnya yang tinggi dan sifat isolasinya yang stabil. Target sputtering seperti ini digunakan di laboratorium dan lini produksi pilot untuk mendeposisikan lapisan oksida yang seragam pada substrat untuk keperluan riset dan pengembangan.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan tipis optik yang membutuhkan lapisan dengan indeks bias tinggi
- Lapisan dielektrik dalam riset mikroelektronika dan kapasitor
- Lapisan pelindung dan penghalang yang dipelajari dalam ilmu material
- Pengembangan perangkat resistive switching dan memori
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—