Target sputtering tantalum oksida (Ta2O5) adalah material sumber keramik oksida padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis. Tantalum oksida termasuk golongan oksida logam transisi, yang dihargai karena konstanta dielektriknya yang tinggi, transparansi optik, dan stabilitas kimianya. Dalam katalog kami, produk ini digolongkan sebagai nanomaterial.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran harga.
- Deposisi lapisan dielektrik dan high-k untuk riset mikroelektronika
- Pembuatan lapisan tipis optik seperti lapisan anti-pantul dan lapisan interferensi
- Lapisan pelindung dan penghalang yang dipelajari di laboratorium ilmu material
- Pengembangan perangkat lapisan tipis dalam R&D akademik dan industri
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—