Tantalum oxide (Ta2O5) adalah oksida logam transisi anorganik yang termasuk dalam keluarga keramik oksida dielektrik. Material ini banyak dipelajari karena sifat isolasi listriknya, transparansi optik pada rentang panjang gelombang tertentu, dan stabilitas kimianya. Target sputtering adalah lempeng padat yang rapat dari material ini, digunakan sebagai sumber dalam physical vapor deposition (PVD). Selama sputtering, ion berenergi tinggi melepaskan atom dari permukaan target, yang kemudian mengendap pada substrat untuk membentuk lapisan tipis yang seragam untuk riset dan pengembangan.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Riset lapisan dielektrik dan high-k pada elektronika lapisan tipis
- Pengembangan pelapis optik untuk pengendalian indeks bias
- Studi lapisan pelindung dan penghalang dalam ilmu material
- Riset rekayasa permukaan pada lapisan tipis oksida
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—