Tantalum oksida (Ta2O5) adalah keramik oksida anorganik yang tersusun dari tantalum dan oksigen. Material ini termasuk dalam keluarga material oksida logam yang digunakan dalam teknologi thin-film. Produk ini disediakan sebagai sputtering target, yaitu lempeng padat sumber material yang dibombardir di dalam ruang vakum sehingga atomnya terdeposisi sebagai lapisan tipis yang seragam pada substrat.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran.
- Lapisan interferensi optik yang menggunakan lapisan oksida dengan indeks bias tinggi
- Film dielektrik untuk riset kapasitor dan perangkat mikroelektronika
- Lapisan pelindung dan penghalang dalam studi material thin-film
- Fabrikasi dan karakterisasi perangkat thin-film berbasis oksida
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—