Tantalum oksida (Ta2O5) adalah senyawa tantalum pentoksida yang tergolong keramik oksida logam transisi. Material ini banyak dipelajari karena sifat dielektrik dan optiknya. Target sputtering merupakan cakram padat dari material ini yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk mendeposisikan lapisan tipis yang seragam pada substrat dalam lingkungan riset dan pengembangan.
- 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan berindeks bias tinggi untuk lapisan tipis optik dan anti-refleksi
- Lapisan dielektrik pada kapasitor film tipis dan riset perangkat mikroelektronika
- Lapisan switching resistif untuk studi memori non-volatil (RRAM)
- Lapisan pelindung dan penghalang dalam eksperimen ilmu material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—