Target sputtering Tantalum (Ta) adalah lempengan logam padat berdensitas tinggi yang terbuat dari tantalum, logam refraktori yang dihargai karena titik lelehnya yang tinggi, stabilitas kimianya, dan ketahanannya terhadap korosi. Target ini digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD), di mana ion berenergi tinggi menghantam permukaan target dan melepaskan atom yang kemudian mengendap pada substrat untuk membentuk lapisan tipis.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis tantalum dan berbasis tantalum untuk riset mikroelektronika
- Lapisan penghalang difusi dalam pengembangan perangkat semikonduktor
- Lapisan tahan korosi dan tahan aus yang dikaji dalam ilmu material
- Riset lapisan optik dan fungsional pada kaca maupun substrat lainnya
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—