Target sputtering Tantalum (Ta) adalah lempeng sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk melapiskan film tipis ke atas substrat. Tantalum merupakan logam transisi refraktori yang dikenal memiliki titik leleh tinggi, stabilitas kimia, dan ketahanan korosi yang baik. Target sputtering berbahan ini berfungsi sebagai sumber material untuk proses pelapisan film tipis dalam riset dan pengembangan.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, sertifikat analisis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Riset deposisi film tipis untuk mikroelektronika dan perangkat semikonduktor
- Studi lapisan penghalang dan difusi pada struktur film tipis multilayer
- Pengembangan lapisan pelindung dan tahan korosi
- Investigasi ilmu permukaan dan material menggunakan peralatan PVD
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—