Target sputtering tantalum (Ta) adalah pelat padat berdensitas tinggi dari logam transisi refraktori tantalum. Target ini berfungsi sebagai material sumber dalam physical vapor deposition (PVD), di mana pemboman ion berenergi tinggi melepaskan atom yang kemudian mengendap pada substrat dan membentuk lapisan tipis. Produk ini termasuk golongan target logam yang digunakan dalam riset lapis tipis dan pelapisan.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan penghalang difusi dan lapisan adhesi dalam riset mikroelektronika dan semikonduktor
- Pengembangan kapasitor lapis tipis dan komponen pasif
- Lapisan pelindung dan tahan korosi pada substrat logam maupun keramik
- Studi lapisan optik dan lapisan fungsional
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—