Target sputtering tantalum (Ta) merupakan lempengan logam padat dari logam refraktori tantalum (Ta), digunakan sebagai bahan sumber dalam sistem sputtering physical vapor deposition (PVD). Sebagai target logam, produk ini termasuk dalam golongan target sputtering logam dan digunakan untuk mendeposisikan film tipis tantalum, serta film senyawa reaktif, untuk proses riset dan industri film tipis.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran harga.
- Lapisan penghalang difusi dalam riset perangkat semikonduktor dan mikroelektronika
- Deposisi film tipis untuk studi kapasitor dan dielektrik, seperti lapisan Ta2O5 yang dibentuk melalui sputtering reaktif
- Lapisan pelindung korosi dan tahan aus pada komponen laboratorium dan industri
- Riset film tipis untuk pengembangan perangkat optik dan sensor
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—