Target sputtering Tantalum (Ta) adalah cakram atau pelat padat dari logam tantalum, logam transisi refraktori yang padat dan ulet, yang dihargai karena titik lelehnya yang tinggi, stabilitas kimianya, dan ketahanan terhadap korosi. Material ini berfungsi sebagai sumber bahan pada physical vapor deposition (PVD), di mana pemboman ion melepaskan atom yang kemudian menempel pada substrat untuk membentuk lapisan tipis.
- 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Riset kapasitor lapisan tipis
- Studi lapisan penghalang difusi pada mikroelektronika
- Pengembangan lapisan pelindung tahan korosi
- Riset lapisan optik dan pelindung
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—