Target sputtering Tantalum (Ta) merupakan lempengan padat dari logam transisi refraktori, disiapkan sebagai material sumber untuk physical vapor deposition (PVD). Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target dan melepaskan atom tantalum yang kemudian mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. Target tantalum Nanografi termasuk dalam golongan target sputtering logam dan banyak digunakan dalam riset lapisan tipis.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan penghalang berbasis tantalum dalam riset mikroelektronika
- Sputtering reaktif untuk pembentukan lapisan tantalum oksida atau tantalum nitrida
- Pengembangan lapisan optik dan pelindung berbasis lapisan tipis
- Studi lapisan permukaan tahan aus dan tahan korosi
- Riset kapasitor lapisan tipis dan perangkat sensor
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—