Target sputtering tantalum (Ta) merupakan lempengan logam padat yang digunakan sebagai material sumber dalam sistem sputtering physical vapor deposition (PVD). Tantalum adalah logam transisi refraktori yang dihargai karena titik lelehnya yang tinggi, ketahanan korosi yang kuat, dan sifat listrik yang stabil. Target sputtering jenis ini banyak digunakan di laboratorium riset dan proses industri untuk menghasilkan lapisan tipis dengan komposisi dan ketebalan yang terkontrol.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, sertifikat analisis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis tantalum dan berbasis tantalum untuk riset mikroelektronika
- Lapisan penghalang difusi dalam pengembangan perangkat semikonduktor
- Studi resistor dan kapasitor lapisan tipis
- Lapisan pelindung dan tahan korosi pada komponen optik dan mekanik
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—